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日企垄断芯片材料，却意外盘活国产光刻胶，中企拿下第一个订单
当前，中国半导体产业面临的形势极为严峻。特别是在核心设备光刻机领域，荷兰的阿斯麦公司几乎垄断了整个市场。同时，在光刻胶等芯片材料方面，日本企业占据绝对主导地位，这一局面在全球范围内尤为明显。光刻胶作为芯片制造不可或缺的基础材料，其重要性不亚于光刻机。
然而，尽管面临巨大的挑战，中国的半导体产业仍在不断努力突破。在全球光刻胶领域，日本、美国等国家的企业长期掌握着核心技术和市场优势。据公开数据显示，日本四巨头ISP、东京应化、信越化学以及住友化学垄断了全球70%以上的市场份额。尽管近年来中国企业在低端光刻胶方面实现了进口替代，但在中高端领域仍然高度依赖进口，尤其是高端光刻胶方面。
然而，日本企业对光刻胶的垄断也激发了国产高端光刻胶的发展潜力。最近，好消息频频传来。据报道，上海新阳作为国内光刻胶的领军企业，其自主研发的KrF厚膜光刻胶产品已经成功通过客户认证，并成功获得了第一笔订单。这一里程碑式的进展意味着上海新阳已经迈入了KrF厚膜光刻胶产品的产业化阶段，也意味着国产KrF厚膜光刻胶的国产化率将得到进一步提升。
除了上海新阳之外，晶瑞股份的KrF厚膜光刻胶也已经完成中试，并进入客户测试阶段。随着国内企业在高端光刻胶制造方面的技术实力不断提升，我们有理由相信国产替代的空间将会越来越大。事实上，全球半导体材料市场正在逐步向中国大陆转移，国内半导体材料销售额占全球市场的比例已经提升至16.2%。在我国对新冠疫情的有效防控和供应链的稳定运行下，国内配套产业的建设进度将进一步加快。
此外，国家政府对半导体产业的鼎力支持也是中国光刻胶企业能够持续发展的重要后盾。为了加快国产替代和高端技术突破，相关部门已经制定了一系列政策，为相关企业提供资金、人才等多方面的支持。在这样的政策环境下，中国光刻胶企业积极投入研发，为实现国产光刻胶打破海外垄断而不懈努力。因此，我们有信心相信，在各方共同努力下，国产光刻胶一定能够崛起并取得更大的突破。
在EUV光刻技术上，日本公司垄断了光刻胶的供应
尽管目前EUV光刻胶市场被日本公司所垄断，但随着技术的不断进步，将会有更多光刻胶制造商涌入这个市场。当前仅有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，毫无疑问，这正是光刻技术的未来发展方向。这一趋势为一些光刻材料市场的开拓者提供了在新市场中建立自身地位的机会。
特别是，目前有两家日本公司主导了EUV光刻机技术处理材料的供应，其中一家著名的公司是Fujifilm富士胶片公司。富士胶片控股公司和住友化学计划在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这些材料有望减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，同时提高其能效。这些材料主要作为光致抗蚀剂供应，这些光敏材料在硅晶体蚀刻过程中发挥着核心作用。
日本公司在光刻胶供应方面早已占据主导地位。例如，JSR和信越化学这两家日本公司，它们主要提供控制EUV光刻机的光刻胶，且EUV光刻机在光刻机市场中占据了高达90%的份额，这种垄断地位使得日本在某种程度上有能力通过供应这种材料来影响其他国家的产业，这种情况在一年前的芯片市场上已经发生过。
然而，好消息是，富士胶片与住友化学提供用于EUV光刻的光刻胶将有助于缓解这种情况。富士胶片正在投资巨额资金，在静冈县装备一家制造厂，并计划明年开始批量生产光刻胶。该公司代表称，其光致抗蚀剂能在硅上留下极少的残留材料，从而显著减少芯片缺陷的可能性。
同时，住友化学也致力于提高光刻胶产能，计划在大阪工厂完成所有光刻胶的生产流程（从设计到生产）。值得注意的是，该公司已经与某知名制造商提前签署未来产品的合同，可能包括为台积电供货。随着未来3纳米技术工艺的发展，对光致抗蚀剂的生产要求将变得至关重要。因为现代光致抗蚀剂在某些应用上并不适用，EUV技术需要使用独特的光刻胶，并且随着工艺技术尺寸的减小，对光刻胶的性能要求也将越来越高。
