本文目录一览：
- 1、日本光刻胶最厉害的公司
- 2、半导体核心材料—光刻胶概述
- 3、光刻胶是什么材料做的
- 4、ip3500光刻胶是日本哪个牌子
- 5、在EUV光刻技术上，日本公司垄断了光刻胶的供应
- 6、日企垄断芯片材料，却意外盘活国产光刻胶，中企拿下第一个订单
- 7、光刻胶是制造手机芯片必不可少的东西，你知道光刻胶是啥吗？
- 8、打破日本技术垄断，中企巨头突破芯片材料，关键性堪比光刻机
- 9、中企打破日企垄断，芯片材料突破封锁，成功拿下首个订单
- 10、日本断供关键材料，国产芯片突围之路再添变数，这次该做个了断了
日本光刻胶最厉害的公司
最厉害的公司是日本合成橡胶。根据知乎平台的信息，可知日本光刻胶界的最厉害的公司是日本合成橡胶（JSR），它是全球光刻胶市场的龙头企业，在该领域占据了13%的份额。在ArF光刻胶市场，JSR更是以24%的占比，位于行业第一。JSR于1979年进入光刻胶领域，目前公司光刻胶业务隶属于数字解决方案部门，其产品主要应用于半导体和显示领域。日本在半导体制造领域有着悠久的历史和技术积累，早在1968年和1972年就开发出了负性光刻胶和正性光刻胶，一直走在半导体微加工技术的前列。而且日本的光刻胶企业注重技术创新和产品质量，能够满足不同制程和应用的需求，覆盖从g线到EUV多种品类，拥有多项专利和标准。
半导体核心材料—光刻胶概述
——预见2023：《2023年中国光刻胶行业全景图谱》(附市场规模、竞争格局和发展前景等)
行业主要上市公司：彤程新材(603650.SH)、晶瑞电材(300655.SZ)、上海新阳(300236.SZ)、雅克科技(002409.SZ)、南大光电(300346.SZ)等
本文核心数据：中国光刻胶行业供需情况;光刻胶行业竞争格局;光刻胶行业市场份额;光刻胶行业市场集中度
产业概况
1、定义
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩膜版)转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板。
2、产业链剖析
光刻胶所在产业链覆盖范围十分广泛，从上游基础化工材料行业、精细化学品行业到中游光刻胶制备，到下游PCB、面板、半导体产业，再到电子等应用终端。光刻胶作为微电子领域微细图形加工核心上游材料，占据电子材料至高点。
由于光刻胶技术含量高且处于PCB、面板和半导体产业的上游，其质量直接影响下游产品的质量，因此下游企业对光刻胶供货企业的质量及供货能力非常重视，通常采取认证采购的商业模式。伴随着高的采购成本与认证成本，光刻胶生产厂家与下游企业通常会形成较为稳定的合作。
行业发展历程：半导体光刻胶领域的研发已有所突破
我国光刻胶的研究始于20世纪70年代，最初阶段与国际水平相差无几，几乎和日本同时起步，但由于种种原因，差距愈来愈大。近年来随着半导体市场在我国迅速发展，光刻胶及其配套试剂在中国市场上呈快速增长的态势，截至目前，我国在半导体光刻胶领域的研发已有所突破，未来产业具有良好的发展前景。2014年以来，推动我国光刻胶行业的重点政策如下：
产业发展现状
1、市场规模：行业规模发展迅速
据Reportlinker的统计数据显示，2019年，中国光刻胶销售额达到人民币81.4亿元，全球光刻胶市场规模为若按美元兑人民币汇率(1：6.5)计算，中国的市场规模几乎占全球总量的15%;2020年，中国光刻胶销售额达到87.4亿元左右，几乎占全球的14.6%，增长空间巨大。2021年，全球光刻胶市场规模为113亿美元，前瞻根据全球市场规模及占比进行测算，2021年我国光刻胶市场规模约为110亿元，同比增长25%，初步测算2022年市场规模在116亿元左右。
2、国产化情况：整体国产化率程度较低
光刻胶是芯片工艺制造中的关键材料，其技术水平决定了半导体产品的技术规格和能力，其技术原理是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成。2019年，南大光电设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施;同时与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》，拟投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。上海新阳248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，193nm光刻胶配套的光刻机也已到货。经过近三年的研发，关键技术已有重大突破，已从实验室研发转向产业研发。
据材料智链数据，我国光刻胶整体国产化率程度较低，目前国内g线光刻胶和i线光刻胶国产化率仅10%，KrF光刻胶和Arf光刻胶的自给率仅1%，EUV光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产，处于研发阶段。
行业竞争格局
1、区域竞争：长三角是光刻胶品牌主要集聚地
我国半导体产业、面板产业和PCB产业主要集中在长三角、珠三角和环渤海地区和成渝鄂地区发展，其中面板产业和PCB产业的产业集群已经初步形成，半导体产业集群化分布进一步显现，已初步形成以长三角、环渤海、珠三角三大核心区域聚集发展的产业空间格局。
我国光刻胶生产及研发企业也主要围绕这些产业的区域发展而布局，目前光刻胶生产及研发企业也主要集中在长三角、珠三角地区。从企业数量来看，我国光刻胶生产及研发企业主要集中在江苏、广东、上海和北京这四大省(市)，这四大省(市)占据了全国光刻胶生产及研发企业数量的65%左右，其中江苏省企业数量最多，占比达到28%左右。
2、企业竞争：全球光刻胶龙头企业占据垄断地位，本土企业集中在中低端市场
目前，我国高端光刻胶产品主要由全球光刻胶龙头企业垄断，我国本土企业主要在光刻胶中低端市场占有一席之位。
具体来看，半导体光刻胶技术含量最高，主要由JSR、东京应化、信越、杜邦、富士等国际巨头垄断。不过，北京科华、南大光电、晶瑞电材近年来不断专研半导体光刻胶技术，其中南大光电子公宁波南大光电自主研发的193nmArF光刻胶于2020年12月通过了客户的使用认证。
中国面板光刻胶主要由日本、韩国和德国外资品牌占领，其中TFT-LCD正性光刻胶被德国默克(安智)、日本TOK、韩国东进化学等国外巨头垄断，德国默克(安智)在中国的TFT-LCD市场占据最高的市场份额。
在PCB光刻胶领域，干膜光刻胶产品依旧被国外巨头日本旭化成、日本日立化成、中国台湾长兴化学等垄断，容大感光、广信材料、东方材料、北京力拓达等本土企业占据国内湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨的主要市场份额。
行业发展前景及趋势预测
1、中国光刻胶未来三大趋势：EUV光刻胶、产品定制化、国产化
总体来看，光刻胶行业发展将呈现以下趋势：
2、到2028年市场规模有望突破200亿元
随着显示面板和先进的半导体生产向中国的迁移，中国的光刻胶市场将不断扩大。据Reportlinker的预计，2023-2028年中国光刻胶市场规模年均复合增长率约10%，结合光刻胶细分市场发展前景，前瞻进一步测算，预计2028年中国光刻胶市场规模将达206亿元。
更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《中国光刻胶(光致抗蚀剂)行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》。
半导体核心材料：光刻胶概述如下：
光刻胶属于半导体八大核心材料之一，根据全球半导体行业协会（SEMI）最新数据，光刻胶在半导体晶圆制造材料价值占比5%，光刻胶辅助材料占比7%，二者合计占比12%。
光刻胶及辅助材料是继硅片、电子特气和光掩模之后的第四大半导体材料。本文主要就半导体核心材料光刻胶及其产业情况进行具体介绍。
1、光刻胶定义及主要成分
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作环节。光刻胶由增感剂（光引发剂）、感光树脂（聚合剂）、溶剂与助剂构成。
1）增感剂（光引发剂）：是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
2）感光树脂（聚合剂）：用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。
3）溶剂：是光刻胶中最大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。
4）助剂：通常是专有化合物，主要用来改变光刻胶特定化学性质。
2、光刻胶主要分类
根据应用领域，光刻胶可分为半导体光刻胶、LCD光刻胶和PCB光刻胶，其技术壁垒依次降低（半导体光刻胶> LCD光刻胶> PCB光刻胶）。
从国产化进程来看，PCB光刻胶目前国产替代进度最快，LCD光刻胶替代进度相对较快，而在半导体光刻胶领域国产技术较国外先进技术差距最大。
3、光刻胶产业链概况
产业链上游：主要涉及溶剂、树脂、光敏剂等原材料供应商和光刻机、显影机、检测与测试等设备供应商。从原材料市场来看，由于中国从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较少，中国光刻胶原材料市场主要被日本、韩国和美国厂商所占据。
从设备市场来看，中国在光刻机、显影机、检测与测试设备行业的起步时间较晚，且这些设备具备较高的制造工艺壁垒，导致中国在光刻胶、显影机、检测与测试设备的国产化程度均低于10%。
产业链中游：为光刻胶制造环节，当前全球光刻胶生产制造主要被日本JSR、信越化学、住友化学、东京应化、美国陶氏化学等制造商所垄断，中国本土企业在光刻胶市场的份额较低，与国外光刻胶制造商相比仍存明显差距。
产业链下游：主要涉及半导体、平板显示器、PCB等领域。伴随消费升级、应用终端产品更新迭代速度加快，下游应用领域企业对半导体、平板显示和 PCB制造提出愈加精细化的要求，将带动光刻胶行业持续发展。
4、半导体光刻工艺流程
光刻工艺历经硅片表面脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影检查等工序。在光刻过程中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光、显影与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。
光刻工艺约占整个芯片制造成本的35%，耗时占整个芯片工艺的40-50%，是半导体制造中最核心的工艺。
5、半导体光刻胶市场规模
随着半导体制程不断缩小，光刻工艺对光刻胶要求逐步提高，需求量也随之增加。从全球市场来看，专注电子材料市场研究的TECHCET预测数据显示，2021年全球半导体制造光刻胶市场规模将同比增长11%，达到19亿美元。
从我国情况来看，根据浙商证券预计，2022年中国大陆半导体光刻胶市场空间接近55亿元，其中ArF（干/湿）和KrF光刻胶在我国市场空间分别约为22.55亿元和12.1亿元，其中ArF（干/湿）占比将达到40%。
6、半导体光刻胶竞争格局
1）全球半导体光刻胶竞争格局
根据2019年数据，全球半导体光刻胶前五大厂商占据全球光刻胶市场87%份额。其中日本占有四家，分别是JSR、东京应化(TOK)、信越化学与富士电子材料，这四家的市场份额达到72%，市场集中度明显。
在半导体光刻胶细分领域，日本厂商在高端市场具有较强话语权。
（1） g/i线光刻胶市场：日本的东京应化、JSR、住友化学和富士胶片分别占据26%、15%、15%、8%的份额，在全球市场占据64%份额。
（2）KrF光刻胶市场：日本龙头企业东京应化、信越化学和JSR在全球KrF光刻胶细分市场分别占据 34%、22%和18%份额，合计占比达到74%。
（3）ArF光刻胶市场：日本龙头企业JSR、信越化学、东京应化和住友化学包揽前四，分别占据全球 ArF 光刻胶细分市场 25%、23%、20%和15%市场份额，合计市场份额达到83%。
（4）EUV光刻胶市场：最先进的EUV光刻胶领域完全被日本企业所主导，日本JSR、东京应化、信越化学成为EUV光刻胶市场可实现量产的厂商。目前引入EUV工艺的仅有三星电子和台积电两家公司。
2）中国半导体光刻胶竞争格局
受制于国内光刻胶技术发展水平，目前我国高端光刻胶的自给率仍然保持较低水平。尽管国内光刻胶市场保持良好的增长趋势，但以KrF、ArF光刻胶为代表的半导体光刻胶领域国内市场份额仍然较小，高端光刻胶市场长期为国外巨头所垄断。
从技术水平来看，目前中国本土光刻胶的整体技术水平与国际先进水平存在明显差距，且主要集中在技术含量较低的PCB光刻胶领域，而在半导体光刻胶和LCD光刻胶方面自给率较低。
具体而言，半导体光刻胶中g线/i线光刻胶国产化率为10%，而ArF/KrF光刻胶的国产化率仅为1%，对于最高端的EUV光刻胶目前仍处于研发阶段。
目前国内从事半导体光刻胶研发和生产的企业包括晶瑞股份、南大光电、上海新阳、北京科华等。相关企业以i 线、g线光刻胶生产为主，应用集成电路制程为350nm以上。在KrF光刻胶领域，北京科华、博康已实现量产。
国内在ArF光刻胶领域产业化进程相对较快的企业为南大光电，其先后承担国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”。
公司自主研发的ArF光刻胶产品成为国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶，其他国内企业尚处于研发和验证阶段。
光刻胶是什么材料做的
光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。
1、增感剂
是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
2、感光树脂
用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。
3、溶剂
是光刻胶中最大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响。其中溶剂质量占比最大，一般在80%以上。
4、助剂
通常是专有化合物，主要用来改变光刻胶特定化学性质。质量占比虽不足5%，却是决定光刻胶特有性质的关键材料，包括光敏剂、表面活性剂等材料。
光刻胶发展历程：
光刻胶产业最早由欧美主导，日本厂商后来居上。1839年，第一套“光刻系统”重铬酸盐明胶诞生。此后经过百年发展，光刻胶技术开始成熟，1950S，德国Kalle公司制成重氮萘醌-酚醛树脂印刷材料，曝光光源可采用g线、i线。
1980S，IBM使用自研的KrF光刻胶突破了KrF光刻技术。随后，东京应化于1995年研发出KrF正性光刻胶并实现大规模商业化，因此迅速占据市场，这标志着光刻胶正式进入日本厂商的霸主时代。此后光刻技术仍在持续进步，ArF、EUV光刻胶先后问世。
2000年，JSR的ArF光刻胶成为半导体工艺开发联盟认证的下一代半导体0.13μm工艺的抗蚀剂。2001，东京应化也推出了自己的ArF光刻胶产品。2002年，东芝开发出分辨率22nm的低分子EUV光刻胶。JSR在2011年与SEMATECH联合开发出用于15nm工艺的化学放大型EUV光刻胶。
ip3500光刻胶是日本哪个牌子
品牌名为信越化学。ip3500光刻胶是日本信越化学的产品。信越化学产是日本最大的化工企业，成立于1926年，主要从事化工业务，生产和销售合成树脂和其他化学品。日本光刻胶三巨头分别是日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）和信越化学。
在EUV光刻技术上，日本公司垄断了光刻胶的供应
虽然将会有更多用于EUV光刻的光刻胶制造商。但是目前这个市场是日本公司垄断的。
目前只有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，但是毫无疑问，这就是光刻技术的未来。
与任何未来一样，它为一些光刻材料市场开拓者提供了在新市场中建立自己的机会。尤其是目前由两家日本公司生产使用EUV光刻机所使用的技术处理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士胶片公司。
富士胶片控股公司和住友化学将在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这可能有助于减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，并使它们更加节能。这款材料主要作为 光致抗蚀剂 的供应，这款光敏材料在硅晶体的蚀刻中起主要作用。
日本公司早已抓住了光刻胶的供应。例如，两家日本公司JSR和信越化学，它们主要供应用于控制EUV光刻机的光刻胶，EUV光刻机占光刻机市场的90％。这种实际上的垄断地位甚至使日本可以通过这种材料的供应来限制韩国，这个情况已经在一年前的芯片市场上发生过。幸运的是，一切都解决了。
因此富士和住友化学提供用于EUV光刻的光刻胶将进一步缓解这种情况，尽管它们也都是日本公司。
富士胶片正在投资45亿日元（4260万美元），在东京西南的静冈县装备一家制造厂，明年开始批量生产光刻胶。根据公司代表的说法，其光致抗蚀剂会在硅上留下最少量的残留材料，从而大大降低了芯片缺陷的可能性。
住友化学将在2022财年初完成大阪工厂的所有光刻胶产能（从设计到生产）。但是它作为193 nm扫描仪光刻胶的供应商已经和某家知名制造商提前签署了未来产品的合同，可能是为台积电供货。
未来，用于3纳米技术工艺的光致抗蚀剂生产问题将变得很重要，因为许多原因，现代光致抗蚀剂不适合使用。EUV技术需要使用独特的光刻胶，并且工艺技术越小，这对光刻胶的要求就越高。
日企垄断芯片材料，却意外盘活国产光刻胶，中企拿下第一个订单
中国半导体产业所面临的形势十分严峻，在核心设备光刻机方面被荷兰阿斯麦垄断，在光刻胶等芯片材料方面则被一众日企垄断。
光刻胶是芯片制造过程中必须用到的基础性材料，其重要性不亚于光刻机。但在全球光刻胶领域，日本以及美国等国家的企业长期掌控着核心技术以及半数以上的市场。
公开数据表明， 日本ISP、东京应化、信越化学以及住友化学这四家巨头垄断了全球70%以上的市场。
尽管近年来中国企业实现了低端光刻胶的进口替代，但在中高端光刻胶上仍然高度依赖进口，尤其是高端光刻胶。
不过，日本企业对光刻胶的垄断，却意外盘活国产高端光刻胶，日前已经有中国企业拿下了第一个高端产品订单。
集微网6月30日消息，国产光刻胶龙头企业上海新阳发布公告，公司自主研发的KrF厚膜光刻胶产品已经通过客户认证，并取得第一笔订单。
要知道，KrF厚膜光刻胶产品的开发和产业化，是上海新阳的第三大核心技术。如今第一笔订单到手，意味着上海新阳已经进入了KrF厚膜光刻胶产品的产业化阶段。
同时，这也意味着，国产KrF厚膜光刻胶将实现更高的国产化率。
值得一提的是，不仅仅是上海新阳， 晶瑞股份的KrF厚膜光刻胶也已经完成中试，并进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产环节。
由此可见，中国企业在高端光刻胶制造方面已经掌握了一定的技术实力。那么，国产光刻胶到底能不能雄起呢？笔者认为可以。
首先，全球半导体材料市场正在逐步向中国大陆转移。
近年来，国内半导体材料销售额占全球市场的比例已经提升至16.2%，随着市场规模的扩张，中国光刻胶企业的机会也会越来越多。
同时，在我国对新冠疫情有效防控、供应链稳定运行的情况下，国内配套产业的建设进度也会进一步加快。
在市场需求旺盛的前提下，国产替代的空间很大。
其次，国家政府的鼎力支持，是中国光刻胶企业坚实的后盾。
为了加快实现国产替代和高端技术突破，我国相关部门制定了一系列的政策，为相关企业提供资金、人才等多方面的支持。
在政策利好的情况下，中国光刻胶企业也积极投入研发，为实现国产光刻胶打破海外垄断而努力。
光刻胶是制造手机芯片必不可少的东西，你知道光刻胶是啥吗？
光刻胶是一种有机化合物，在紫外线的曝光后，会发生变化。一般都是把它以液态的方式涂在硅片表面上，曝光后烤成固态以用来图形转移。
是光刻成像的承载介质，有多种不同的分类，可以被用来做涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形，可以被用来做模拟半导体、发光二极管等等。
光刻胶，指的是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，也是当前技术门槛最高的微电子化学品之一，还是电子领域重要的基础应用材料之一。近年来，大规模和超大规模集成电路的发展，大大促进了光刻胶的研究开发和应用，目前光刻胶研发已被列入我国高新技术计划、重大科技项目。
光刻胶有成为光制扛蚀机是光刻成像的承载介质，可以利用化学反应原理讲光哥系统中经过滤波颜色后的光信息转化为能量，完成掩膜图形的复制。 有消息称，日本东北213地震使得其企业的光刻胶出现了供应告急的问题，而信越更是宣布了关闭厂区，要知道日本信越占据全球光刻胶市场的20%。而光刻胶又是半导体的关键材料，日本信越宣布关闭厂区，就意味着全球光刻胶出现了供不应求的情况，其所带来的连锁反应就是加剧了芯片急慌的问题。
有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了5.24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。其中前面讲到过的信越以及住友化学和TOK等等都是光刻胶市场领域之中的巨头，可是日本此次突发地震，使得光刻胶市场1度面临供不应求的状况。
我们国家在光刻胶领域几乎是一片空白。不过，目前已经有很多中国企业正在不断的追求国产替代，在PCB光刻胶市场，这种国产化率已经达到了50%。 虽然只是门槛相对较低的市场，但好歹也算是一定的成就吧，而在LCD光刻胶市场之中，国产化已经达到了5%。在这种领域之内，其实我们还需要面临很大的挑战。而此次日本光刻胶出现告急的情况，给中国的企业带来了一定的机遇。
目前，我们国家已经涌现了很多的光刻胶领头企业，填补在这上面所遇见的空白，其中就包括晶瑞股份，南大光电，上海新阳等等。在南大光电的努力之下，企业发的ARF193纳米光刻胶，已经通过了客户使用认证，成为中国首只通过产品验证的国产ARF光刻胶，代表着在光刻胶领域之中，我们又向前一步。除了南大光电之外，晶瑞股份也传来了消息，其KrF光交已经进入了客户测试阶段。要知道，晶瑞股份曾经花费巨资达到1102.5万美元从sk海力士手中收购了阿斯买的光刻机设备。这种光科技能够研发出最高28纳米的光刻胶。对于晶锐股份的ARF光刻胶以及ARfi光刻胶有着一定的推动作用。
而上海信阳花费7.32亿元推动集成电路制造，其中ARF光刻胶与KrF光刻胶成为其公司项目的主要攻克方向。不管是南大光电还是晶锐股份，又或者是上海新阳，这些企业为中国在光刻胶领域上面的发展填上了一笔又一笔色彩，使得我们在这个领域之中不再是小白的状态。除了在光刻胶领域之中，我们在其他很多领域之中也都获得了一定的成就。相信在全国上下无数企业的努力之下，我们一定能够完成在半导体内各个领域之中的突破。虽然我们底子薄弱，但是我们有不服输的精神，尽管我们起步晚，但是我们有决心。我们不能够决定我们在全球领域内会拥有多大的地位，但是我们能够决定我们付出多少就会收获多少。
打破日本技术垄断，中企巨头突破芯片材料，关键性堪比光刻机
芯片生产过程整体上可以分为三个环节，分别是芯片设计、芯片制造和芯片封装。其中芯片制造是最硬核的一个步骤，涉及到各种顶尖的技术，设备和材料等等。
任何一个细节出现纰漏，都有可能影响芯片制造的效果。大家都知道光刻机对芯片生产有很重要的意义，但实际上芯片制造关键之一也包括了光刻胶。
如果说光刻机是制造过程中必不可少的设备，那么光刻机就是保证制造芯片前的关键。光刻胶作为一种有机化合物，在被紫外光曝光后，以液态的形式涂抹在硅片上，从而干燥成胶膜，保护硅片在光刻过程中的作业。
在芯片制造所涉及的材料上，光刻胶是不可或缺的。而光刻胶的应用领域非常广，包括在印刷工业领域。
只是由于集成电路产业规模的增长，加大了对光刻胶材料的应用。只不过光刻胶一直被日本企业垄断。包括东京应化，富士胶片等日本企业都是光刻胶领域的巨头。
因为在光刻胶产业有着极大的话语权，所以不少国家都要选择与日本合作，进购光刻胶。日本长期维持对光刻胶的垄断，但中国企业传来好消息，突破了关键芯片材料，打破垄断。
中国企业这些年在各项半导体集成电路领域一直在发展，其中涉及到芯片材料的光刻胶上也取得了进展。
据科创板日报消息，南大光电控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过了客户认证，这次通过认证以后，意味着ArF光刻胶产品的开发和产业化取得了关键突破。这也是国内首个国产ArF光刻胶。
据了解，ArF光刻胶可以用在90nm-14nm，甚至是7nm芯片制程技术的应用，在高端芯片制造能发挥重要作用。
如今南大光电突破关键芯片材料，打破日本技术垄断，而且关键性堪比光刻机。虽然距离生产高端芯片还有一段路要走，但是每一次实现的技术突破，都是在为将来生产高端工艺芯片打下基础。
芯片设计有华为海思、芯片制造有中芯国际、芯片材料有南大光电，还有光刻机设备制造也有上海微电子。
集合这么多的顶级 科技 力量，相信未来我们能够在更多的关键技术上迎来突破。
芯片制造是一项复杂的过程，从设计到制造，再从制造到封装，一颗小小的芯片能够被生产出来，背后有太多的不容易。
但是这并不代表会放弃，相反还会激励我们不断向前。前有华为突破5nm设计芯片，后有南大光电打破日本技术垄断，带来ArF光刻胶，为中国芯片制造产业做出巨大贡献。
在芯片制造产业的进展已经非常迅速了，比如中芯国际在梁孟松的帮助下，从三年前的28nm到今年量产14nm，最快明年就能尝试生产7nm芯片。将来要是能获得EUV光刻机，更高的5nm，以及3nm都开始进行研究。
为了鼓励芯片制造企业加强技术研发，我国给予最高免税十年的待遇。还要培养半导体人才，这一切都说明，以前落下的功课，我们正在补上。所有取得高分的学霸，都是一点一滴积累起来的。
南大光电在ArF光刻胶上取得突破，完成了客户认证。这仅仅迈出了第一步，还有第二步，第三步。像南大光电这类的企业在我国还有很多，他们都在默默为中国半导体付出。
曾几何时，国产芯片有这么快的进展速度。因为华为让我们认识到自主技术的重要性，只有掌握核心 科技 才能睡上安稳觉。期待国产半导体能取得更大的突破。
对南大光电突破ArF光刻胶你有什么看法呢？
中企打破日企垄断，芯片材料突破封锁，成功拿下首个订单
众所周知，光刻机在芯片的生产过程中起着举足轻重的作用。只要拥有一台EUV光刻机，芯片制造企业就可以研制出更加先进的芯片工艺。除了光刻机之外，光刻胶等半导体材料对于芯片的光刻环节发挥了重要作用。南大光电公司自主研发的ArF光刻胶产品已经通过认证，打破了日本企业的垄断局面，成功获得第一个国产光刻胶订单。
被日德占据的光刻胶市场，南大光电正在打破垄断局面。或许大部分人都不知道光刻胶是什么，就好比版画刻印过程需要使用的油墨。由此不难看出，光刻胶的质量与芯片的良品率息息相关。
然而，全球的光刻胶市场被日本、德国等国家企业占据了80%以上的份额，特别是日本的“化学三大巨头”，包括JSR、TOK、信越，而且三大巨头还是世界上唯一可以供应EUV光刻胶的企业。在国外企业的垄断之下，国产半导体企业只能通过进口光刻胶实现生产。因此，南大光电公司实现国产光刻胶的强势崛起，可以推动光刻胶产业的发展。
国产光刻胶打破日本企业的垄断，面临的两个难点。在高端光刻胶市场上，日本企业更是出于高度垄断的地位。由于我国高度依赖进口的光刻胶，无论是研发技术还是市场规模，国产企业与国际巨头都存在明显的差距。在重重限制之下，国产光刻胶打破日本企业的垄断局面主要有两个难点。
其一：光刻胶产业的门槛越来越高，不仅需要投入大量的资金和技术，而且需要一批专业人才。值得一提的是，光刻胶对一致性和稳定性的要求十分严格。只要光刻胶的质量出现问题，就会带来严重的损失。除此之外，光刻胶必须符合差异化应用需求，按照不同客户和应用场景等需求进行调节。由此可见，光刻胶的细分种类复杂多样，根本无法实现标准化、模块化。
其二：由于光刻胶的验证周期较长，所以下游客户不会随意更换光刻胶制造厂商。在这种情况下，国产光刻胶难以打破当下的发展格局。
当然，这种情况不能说明国产光刻机无望打破传统。随着技术的积累，如今的南大光电公司已经发布了两条光刻胶生产线，ArF光刻胶正在广泛展开客户的验证任务，进一步扩大商用规模。在此期间，南大光电不仅发布了许多被国外企业垄断的中间体材料，而且发现了许多决定光刻胶性能的重要数据，推动了国产光刻胶的生产、制造等环节。为了研制出更加完美的光刻胶，南大光电投入了大量资金和人力。在我国半导体材料行业上，南大光电的研发支出增速与营收总额的占比已经处于前列。
国产光刻胶不会“被卡脖子”，日企垄断局面被打破。令人意想不到的是，南大光电仅仅用了一年时间，193nm ArF光刻胶研发项目就通过了使用认证，并且得到了第一份光刻胶订单，目前正在小批量销售。
由此可见，我国已经在光刻胶行业上打破了日本企业的垄断，并且开启了一条全新的发展道路。根据当前的测试结果进行分析，南大光电旗下的ArF光刻胶性能与日本企业研制的光刻胶产品基本处于同等水平，已经实现了ArF光刻胶的本土化和国产化，并且成为我国最先进的光刻胶产品，成功打破了长期被日本企业垄断的局面。
在南大光电举行的业绩说明大会上，南大光电对外披露：公司自主研制的ArF光刻胶产品与产业化项目建设了25吨光刻胶生产线。与此同时，南大光电已经在光刻机、原材料和生产设备方面进行布局。由于光刻胶的主要原材料是我国自主研发的，并且联合我国企业共同研制了生产设备，所以不会出现“被卡脖子”的风险。
光刻胶是芯片生产环节的重要材料，主要应用于光刻工艺。如果没有光刻胶，那么光刻机只是一堆价格昂贵的废铜烂铁。
因此，实现光刻胶的国产替代迫在眉睫。成功打破日本企业的垄断，南大光电自主研制的光刻胶产品目前正在验证，在未来发展有望得到更多的光刻胶订单。当下的南大光电公司已经成为国产光刻胶替代的企业巨头，在南大光电等国产企业的积极奋斗之下，相信我国能够在高端光刻胶市场上取得重大突破。对此，你有什么独到的见解呢？
日本断供关键材料，国产芯片突围之路再添变数，这次该做个了断了
为了应对美国的芯片禁令，国内市场的那些被美系技术所垄断的设备、材料入手，展开了有针对性的破局行动。
在中科院、清北高校等顶尖科研机构以及华为等先进 科技 企业的团结努力下，被美企垄断的 蚀刻机 、 离子注入机 、 薄膜生长材料 、 抛光清洗机 等关键设备材料，先后被中微半导体、中国电科等国产企业突破。
就连ASML认为我们造不出的光刻机，也传来了好消息。
上海微电子自研的光刻设备已经来到了28nm精度，且完成了技术检测与认证， 预计年底便可下线商用 。继清华大学突破EUV光源技术之后，中科院旗下的上海“光机所”，也熟练掌握了可以有效提升光刻分辨率的OPC技术。
或许目前我们拥有的设备技术不如老美的好看好用，但用来应付垄断，却可以堪当大任 。
随着国内市场“去美化”步伐的提速， 万众瞩目的“中国芯”终于迎来了开花结果 。
电子信息研究院温晓君已正式表态： 国产28nm芯片将于今年实现量产，14nm芯片会在2022年进入国内市场。
在中低端领域逐渐站稳脚跟的国产芯片，接下来必然会快速地向高端领域进军，突破老美的封锁指日可待。
然而，谁曾想到，在这关键时刻，却又跳出来了个落井下石的小丑， 给国产芯片一片光明的突围之路增添了未知的变数 。
据外媒报道，日本方面做出断供我国市场高端光刻胶的决定，而它的越信化学公司，已经正式对外宣布，将不再计划向中企出手Krf光刻胶。
光刻胶是芯片制造不可或缺的材料，在该领域， 日本越信化学公司一直是业内核心，占据了全球约90%的市场份额 ，全球除了它之外，也只有老美能勉强在高端光刻胶领域做到自给自足。
日本的突然断供，可谓是给了正在全力突围老美封锁的国产芯片一记闷棍 。
不过换个角度来看，既然我们意在打造一条自主可控的半导体产业链，那么 潜在的问题和对手能够早些浮出水面并不是一件坏事 。这或将让我们重新审视破冰的方向，若不想再被“卡脖子”， 仅仅是“去美化”还不够，实现“国产化”才是正确的路 。
尤其是对于日本， 历史 的烙印永远无法抹去。除了光刻胶断供一事，近期索尼公司的辱华事件，更是值得所有人警醒。
笔者虽位卑，但未敢忘忧国。在无数国人高喊让索尼滚出中国的同时，包括光刻胶领域在内，我们也该跟它做个了断了！
令人振奋的是， 国产企业没有让我们失望，继南大光电突破Krf光刻胶核心技术后，上海新阳则更进一步 。
据公开资料显示，上海新阳已经完成了对高端光刻胶的开发，目前处于商用测试阶段。从布局规划来看， 如果顺利的话，国产高端光刻胶于2022年便可实现小批量销售，2023年便可大规模量产 。
在光刻胶的研发上，国产企业正在加速完成对日本企业的替代。
这样的好消息实在是解气。笔者个人认为，国内市场无论有求于谁，都坚决不能有求于日本。
国产半导体产业的图强和发展固然重要，但更重要的是，前辈们用血和肉捍卫的民族尊严坚决不容触碰。
