本文目录一览：
- 1、中国光刻机现在达到了多少纳米呢？
- 2、中国有光刻机了吗？
- 3、中国高端光刻机什么时候能研制出来
- 4、中国光刻机能产几纳米
- 5、我国唯一一台euv光刻机现状
- 6、中国有光刻机吗？
- 7、中国最大的光刻机生产厂家
- 8、中国生产光刻机的上市公司龙头
- 9、国内光刻机排名第一公司
- 10、光刻机多少纳米
中国光刻机现在达到了多少纳米呢？
中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。
中国有光刻机了吗？
国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯。
中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘芯还举行了重大的入场仪式。
光刻机，又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
半自动指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。自动指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
以上内容参考：百度百科-光刻机
中国高端光刻机什么时候能研制出来
摘要：光刻机是制造芯片的关键设备，是世界上最复杂的精密设备之一，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶，目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机，我国就是其中一个。那么，中国光刻机现在多少纳米？中国高端光刻机什么时候能研制出来？一、中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收。也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺。之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA800/10W光刻机，这是一台国产浸没式DUV光刻机，可实现单次曝光28nm节点。所以网络里一直流传着这个说法。不过对于此消息，有人说是真的，有人说是假的。让人很是迷糊。上海微电子的确在做可以实现28纳米制程的国产DUV光刻机。只是是否通过验收，到底何时能交付，目前未知。28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有14、7、5、3、2，甚至是1nm。但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用的，用来生产我们日常生活中的电子设备是没有问题的，例如电视、电视盒子、音响、电梯、空调、微波炉、冰箱、汽车等等。另外，根据研究机构ICInsights发布的《2020-2024年全球晶圆产能》报告，预计到2024年，半导体制程格局将出现10nm以下，10-20nm，20nm以上工艺三分天下的格局，各自市场占有率约为1/3，而28nm以上的成熟工艺在未来四年的市场份额没有明显变化，仍然有很大的市场，所以无需盲目地追求制程工艺。二、中国高端光刻机什么时候能研制出来很多人疑惑，中国是世界上工业生产能力最强的国家，为什么中国造不出高端的光刻机？其实最大的原因就是中国的工业是多而不精。光刻机并不是一项技术的突破，而是一整个光学领域绝大多数技术的突破。目前全球最顶尖的光刻机接近200吨，由差不多十万个零件组成。其中绝大多数都是核心零件，每一个零件都需要很多技术的突破才能做出来。有工程师称，里面一些零件需要打磨十年才能诞生。虽然最先进的光刻机出自荷兰，但荷兰公司也只是做一个组装和调试的工作，里面的核心零件来源于大多数西方国家。从美国到英国，从法国到比利时，所有站在西方阵营的国家合在一起，才能造出一台最顶尖的光刻机。所以中国要造最顶尖的光刻机并不是在和某一个国家对抗，而是在和整个西方世界对抗。这就好比班级考试，考试的科目有数百科。总成绩好点的学生固然能考出一个比较高的总成绩，但是这个学生不能让自己每一科的成绩都达到最高。和他相比，那些成绩不好的学生虽然偏科，但是他们总有一两科自己擅长的科目，这些科目总有得高分甚至是满分的机会。这些学生最好的科目加起来，就能组成一个非常高的“各科总成绩”。要造出最顶端的光刻机，就需要这些科目每一颗都得到极高的分数甚至是满分。所以中国的光刻机之路并不是突破几项新技术就能走稳、走好的，中国需要在整个光学技术上的绝大多数技术中得到突破，才能以一个国家的科技实力对抗整个西方社会。很多人疑惑中国什么时候能造出最顶尖的光刻机，这个问题的答案没有任何人能给出来。中国在光刻机领域遇到的困难，和中国当年造原子弹时，没有计算机，没有离心机，没有数据资料一样困难。当年中国在美国造出原子弹接近9年后拥有了自己的原子弹，中国现在打算大力研制光刻机也是近两年的事情。就目前来说，我国最顶尖的光刻机也就是国际上2005年左右的光刻机最顶尖水平，差距在15年左右。所以很多人认为，我国应该会在十来年左右达到让自己的光刻机达到国际社会的最顶尖水平。
中国光刻机能产几纳米
中国光刻机能产几纳米：最新成果展示
据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度。目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步。这意味着中国在半导体产业中所具备的实力进一步得到了增强，也为今后的科技发展奠定了更为坚实的基础。
作为目前全球光刻技术的主要开发者，中国的光刻机发展一直备受瞩目。过去，中国的光刻机只能达到50纳米的生产精度，然而近年来，把握机遇，大力发展技术，中国光刻机顺利实现了25纳米和18纳米的生产精度，成功将产业链推向更高层面。而如今光刻机打破7纳米这一生产极限，是产业竞争最新的战略制高点。
中国在发展光刻机方面的成功也促成了技术创新和国际产业分工的加强。目前，中国已经能够自主开发生产一款全新的光刻机，并借此提高半导体产业的制造技术。在未来，中国的光刻机技术还将继续提升，为推动半导体产业逐步向着智能化、高效、普及化等多元化方向发展，发挥更大的作用。
我国唯一一台euv光刻机现状
——2021年中国光刻机行业进出口贸易市场现状分析 进口占主导地位、日本和荷兰为主要进口地
中国光刻机行业主要上市公司：芯源微(688037)、华特气体(688268)等。
本文核心数据：光刻机进口量、光刻机出口量、光刻机进出口规模等
1、国内光刻机需求高度依赖进口
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备。由于光刻机是技术壁垒极高的产品，受技术限制，我国光刻机需求高度依赖进口，数据显示，2020年，我国光刻机行业的进出口总额为19.5亿美元，而贸易逆差达17.59亿美元。
2、光刻机进口量总体增长、主要从日本、荷兰进口
在进口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机进口数量和进口金额均先将后升。2020年，进口数量为239台，进口金额为18.55亿美元;2021年1-7月，进口数量和金额分别为248台、6.7亿美元，均超过了2020年全年水平。
从进口来源地来看，2020年，我国从日本进口的光刻机数量最多，达128台，但从进口金额来看，我国从荷兰进口的光刻机金额最多，占进口总额的89%，这主要是由于全球光刻机市场主要有三大企业占领，分别是荷兰ASML、日本的尼康和佳能，其中荷兰ASML在高端光刻机市场占绝对龙头地位。
从进口企业注册地来看，2020年，江苏省、上海市进口的光刻机数量最多，分别为70台和67台，主要因为这两个省市拥有较多的芯片制造企业，而光刻机是芯片制造的核心设备。
3、2020年上海市出口的光刻机数量最多
在出口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机出口数量和出口金额均先升后降。2020年，出口数量为39台，出口金额为9551.54万美元;2021年1-7月，出口数量和金额分别为20台、1648.9万美元。
从出口企业注册地来看，2020年，我国出口的39台光刻机中，有28台是由上海市企业出口，该市有我国本土光刻机的领先企业-上海微电子和芯源微。
以上数据参考前瞻产业研究院《中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》。
我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有。
EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光刻机如何则备受关注。
目前，ASML公司所在的荷兰政府以及美国政府均在对EUV光刻机的出口进行严格的管制，而EUV光刻机是制造芯片的必要设备之一，中国的半导体产业将会面临供应链断裂的风险。
面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的半导体产业发展。中国正在积极推进自主创新，加大投入力度，建设自主可控的芯片生态系统。目前，中国的一些芯片制造企业也在积极研发EUV光刻机，以期实现国产化。
性能指标：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
以上内容参考：百度百科—光刻机
中国有光刻机吗？
中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的作用：光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术，然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
中国最大的光刻机生产厂家
上海微电子
上海微电子目前已经量产最先进的SSA600/20系列光刻机，依旧采用的是193nmArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额；而根据国内官方媒体最新报道，上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限。上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
目前我国的光刻机厂家正在快速发展中，虽落后西方国家一步，但未来是光明可见的。光刻机的种类、品牌多式多样，其重要功能各不一样。光刻机（MaskAligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRONXQ4006、以及中国品牌。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如MycroN&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。
中国生产光刻机的上市公司龙头
中国生产光刻机的上市公司龙头有：大族激光、芯源微、容大感光、晶瑞电材、南大光电。
1、大族激光
大族激光科技产业集团股份有限公司主要从事工业激光加工设备与自动化等配套设备及其关键器件的研发、生产和销售。公司的主要产品为通用元件及行业普及产品、行业专机产品、极限制造产品三大类。公司成为行业内唯一入选国家工信部智能制造试点示范项目名单的企业。
2、芯源微
沈阳芯源微电子设备股份有限公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理。
3、容大感光
深圳市容大感光科技股份有限公司主营业务是液态感光阻焊油墨、液态感光线路油墨、特种油墨和显示用光刻胶及半导体光刻胶等电子化学品的研发、生产和销售。公司已逐步形成了PCB感光油墨、光刻胶及配套化学品、特种油墨三大系列多种规格的电子化学产品。
4、晶瑞电材
晶瑞电子材料股份有限公司是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料，超净高纯试剂，锂电池材料和基础化工材料等。
5、南大光电
江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业，也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品是先进前驱体材料产品、电子特气类产品和光刻胶及配套材料。
以上内容参考百度百科-大族激光科技产业集团股份有限公司百度百科-沈阳芯源微电子设备有限公司
国内光刻机排名第一公司
国内光刻机排名第一公司是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
上海微电子是半导体行业的上市公司，公司坐落于张江高科技园区。公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发，生产销售与服务，IC制造与先进封装，MEMS，TSV/3D，TFT-OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候，全方位，全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。
上海微电子优点：
微电子的封装光刻机的存在也让中国省去了大量的成本，令企业更加具有竞争力，同时也让国家在高新技术领域有更多的话语权，上海微电子作为先驱者，让中国企业在光刻机领域取得了突破性成果，未来将会有更大的空间，也期待芯片行业能取得更大的进步和发展。
上海微电子的光刻机的成功，一方面归功于它运用自身的技术和知识积累，另一方面也是因为它重视精益生产原则。从几何结构到控制系统，每一步都会考虑到操作便捷性及效率问题，以保证产品性能、生产效率、经济效益，以及确保环境安全等等。
以上内容参考：上海微电子官网
光刻机多少纳米
smee光刻机22纳米。
光刻机（lithography）又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；半自动指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；自动指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
光刻机性能指标
光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。
以上内容参考百度百科-光刻机
