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中国光刻机,中国生产光刻机的上市公司龙头

admin admin 发表于2023-12-12 09:14:08 浏览14 评论0

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本文目录一览：

中国有没有自己的光刻机？



中国有自己的光刻机： 由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径。 在光电所的努力下，中国的光刻机研制跳出了缩小波长、增大数值口径来提高分辨力的老路子，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的技术，也为超分辨光刻装备提供了理论基础。扩展资料： 光刻装备，项目组为航天科技集团第八研究院、中科院上海微系统与信息技术研究所、电子科技大学、四川大学华西二院、重庆大学等多家单位制备了一系列纳米功能器件。 包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了超分辨光刻装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

中国生产光刻机的上市公司龙头

中国生产光刻机的上市公司龙头有：大族激光、芯源微、容大感光、晶瑞电材、南大光电。
1、大族激光
大族激光科技产业集团股份有限公司主要从事工业激光加工设备与自动化等配套设备及其关键器件的研发、生产和销售。公司的主要产品为通用元件及行业普及产品、行业专机产品、极限制造产品三大类。公司成为行业内唯一入选国家工信部智能制造试点示范项目名单的企业。
2、芯源微
沈阳芯源微电子设备股份有限公司主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），可用于8/12英寸单晶圆处理。
3、容大感光
深圳市容大感光科技股份有限公司主营业务是液态感光阻焊油墨、液态感光线路油墨、特种油墨和显示用光刻胶及半导体光刻胶等电子化学品的研发、生产和销售。公司已逐步形成了PCB感光油墨、光刻胶及配套化学品、特种油墨三大系列多种规格的电子化学产品。
4、晶瑞电材
晶瑞电子材料股份有限公司是一家微电子材料的平台型高新技术企业，围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向，主导产品包括光刻胶及配套材料，超净高纯试剂，锂电池材料和基础化工材料等。
5、南大光电
江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业，也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品是先进前驱体材料产品、电子特气类产品和光刻胶及配套材料。
以上内容参考百度百科-大族激光科技产业集团股份有限公司百度百科-沈阳芯源微电子设备有限公司

中国光刻机是谁研发的

首台国产光刻机是上海微电子装备（集团）股份有限公司研发的。
上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。
SMEE致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候、全方位、全身心地为顾客提供优质产品和技术服务。SMEE已通过ISO27001信息安全、ISO9001质量管理和ISO14001环境管理等体系的国际认证，力求为客户提供持续、稳定、高品质的产品和服务，并履行一个优秀的高科技企业的社会责任。
SMEE光刻机研发成功的意义
上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片。这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展。
随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助。因为封装光刻机也是制造集成电路和半导体器件的关键设备之一，它能够将电路图案转移到半导体材料的表面，是半导体产业中不可或缺的重要设备。
以上内容参考：上海微电子装备（集团）股份有限公司官网-公司简介

中国的光刻机在哪里？

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯。
中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘芯还举行了重大的入场仪式。
光刻机，又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。手动指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
半自动指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。自动指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
以上内容参考：百度百科-光刻机

我国光刻机发展怎么样了？

我国光刻机发展还是不错的。
2020年，“就算给你完整图纸，你也造不出来光刻机。”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行。因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远，他们一定会尝试的。”2023年4月初，“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链！”
2023年4月底，“美方主导的半导体出口管制，面对这种情况，中国寻求开发自己的半导体制造设备是合情合理的。由于竞争对手可能生产出最先进的光刻机，ASML进入中国市场是绝对必要的。”2023年8月初，高通在财务会议上明确表示将有可能全面失去华为订单的风险。2023年9月1，ASML：已向荷兰政府申请许可证获批，在2023年内仍可向中国出口部分高端浸润式光刻系统。
2023年9月3日，刚刚结束访华之行的美国商务部长雷蒙多出现在美国有线电视新闻网（CNN）“国情咨文”节目中。她声称美国将继续向中国出售芯片，但“不会向中国妥协出售我们最顶尖的芯片”。
2023年9月6日，ASML公司CEO坦言，妄图孤立中国是没有希望的。“中国有14亿人，而且聪明人很多。他们能想到我们未想到的解决方案，出口管制只会迫使他们提升创新能力。”“中国人做事更努力、更专注、更快，我们太自以为是了。”

中国光刻机

中国光刻机历程
1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机；1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺；清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。而那时，光刻机巨头ASML还没诞生。
然而，中国在1980年代放弃电子工业，导致20年技术积累全部付诸东流。1994年武汉无线电元件三厂破产改制，卖副食品去了。
1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机。
1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。
1977年，我国最早的光刻机GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。
1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。
1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
1981年，中国科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。
1982年，科学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平。这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始大规模引进外资，有了＂造不如买”科技无国界的思想。光刻技术和产业化，停滞不前。放弃电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫取消。
九十年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这直接导致ASML如此强势的关键。直到二十一世纪，中国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足足落后ASML20多年。

中国光刻机公司排名

光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
上海微电子公司简介：
上海微电子是半导体行业的上市公司，公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发，生产销售与服务，IC制造与先进封装，MEMS ，TSV/3D，TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候，全方位，全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。

中国最大的光刻机生产厂家

上海微电子目前已经量产最先进的SSA600/20系列光刻机，依旧采用的是193nm ArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额；而根据国内官方媒体最新报道，上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限。上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
目前我国的光刻机厂家正在快速发展中，虽落后西方国家一步，但未来是光明可见的。光刻机的种类、品牌多式多样，其重要功能各不一样。光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。

什么是中国光刻机？

018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。
▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍
刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。
中科院SP超分辨光刻机
提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。
▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机
该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。
▲中科院研发的光刻机镜头
目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。
▲中科院SP光刻机加工的样品
然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。
据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。
总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。
显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

中国如何突破光刻机

突破光刻机需要不断探索、钻研，攻克光刻机难题。
中国的企业在光刻机领域的研发能力也在不断提升。例如，中微半导体公司自主研发的光刻机已经实现了量产，并成功应用于多个芯片制造企业。此外，国内的其他企业也在积极开展相关技术研究和开发工作，不断提升自身的技术水平和市场竞争力。
中国的高校和科研机构也在积极参与光刻机领域的研究和发展。例如，清华大学、北京大学等知名高校都设立了半导体相关的研究机构和实验室，为光刻机技术的研究和应用提供了强有力的支持。
中国在光刻机领域的发展虽然起步较晚，但通过政府的支持、企业的创新和科研机构的努力，已经在该领域取得了一些重要的突破和进展。未来，随着技术的不断进步和市场的不断扩大，相信中国在光刻机领域的实力将会越来越强大。
光刻机作用介绍
在半导体制造中，首先需要将设计好的电路图案转移到一块透明的硅片上。这个过程称为光刻，而完成这个任务的设备就是光刻机。光刻机通过使用光学透镜和掩模，将计算机设计好的电路图案缩小到硅片上，从而形成电路图案的微细结构。
光刻机的精度和分辨率对于芯片的性能和功耗有着至关重要的影响。高精度的光刻机可以制造出更小、更快、更节能的芯片，从而提高整个电子产品的性能和可靠性。此外，光刻机还可以用于制造多层芯片和三维芯片等高端产品。
光刻机在半导体制造中扮演着至关重要的角色，它是实现高性能、低功耗芯片制造的关键设备之一。随着科技的不断进步和市场需求的不断增长，光刻机的重要性将会越来越突出。