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国产光刻机,中国的光刻机是谁造的？

admin admin 发表于2023-12-07 20:17:59 浏览16 评论0

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本文目录一览：

中国的光刻机是谁造的？



首台国产光刻机是上海微电子装备（集团）股份有限公司研发的。上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。SMEE致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候、全方位、全身心地为顾客提供优质产品和技术服务。SMEE已通过ISO27001信息安全、ISO9001质量管理和ISO14001环境管理等体系的国际认证，力求为客户提供持续、稳定、高品质的产品和服务，并履行一个优秀的高科技企业的社会责任。SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片。这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与发展。随着上海微电子的封装光刻机进入国产厂商生产线，对于提升国产芯片自给率，降低国外芯片进口依赖有了更大的帮助。因为封装光刻机也是制造集成电路和半导体器件的关键设备之一，它能够将电路图案转移到半导体材料的表面，是半导体产业中不可或缺的重要设备。

中国光刻机现在达到了什么水平？



中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国产光刻机公司排名

关于国产光刻机公司排名的回答如下：
1、影速
江苏影速集成电路装备股份有限公司、无锡影速半导体科技有限公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业集成电路装备高科技企业
在江苏徐州市、无锡市均设有研发中心及生产基地，并在全国及海外等15个地区设有办事机构，专门负责产品销售及客户服务。
2、鸿源鼎芯
四川鸿源鼎芯科技有限公司成立于2019年04月15日，注册地位于四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号，法定代表人为张其文。
经营范围包括计算机软硬件开发；工业自动化控制设备销售及技术开发、咨询、转让服务；电子产品技术开发、技术咨询；
销售：工业自动化控制设备、仪器仪表、机械设备、电子产品、计算机软硬件、五金交电、电力设备、安防设备、光学仪器；
设计、制造、加工、销售：自动化专用设备、电子专用设备、光学仪器及技术服务；货物及技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可展开经营活动）。
3、芯碁微装
合肥芯碁微电子装备有限公司于2015年合肥市国家级高新技术开发区成立,是一家专业致力于半导体无掩膜光刻设备、检测设备、高端PCB专用激光直接成像设备（LDI）研发和生产的高科技企业。
合肥芯碁微电子装备产品可广泛应用于IC芯片、掩膜版、MEMS、生物芯片、PCB、IC Substrate、TouchPanel、TFT-LCD、LED等影像转移领域。
业界精英级技术团队、专业级管理团队、高标准的研发中心和生产基地为企业提供强大技术支撑、完善的管理和服务体制，公司同时与多所**大学建立了战略合作、联合实验室以及人才培养中心为企业建立了生态的发展环境。
4、苏大维格
苏州苏大维格科技集团股份有限公司于2001年10月25日成立。
法定代表人陈林森,公司经营范围包括：数码光学技术产品的研发、制造、生产激光全息制品、激光立体照排系统、激光包装材料生产线、包装材料、防伪技术产品、自动化控制、光学元器件、光学仪器、提供相关技术、软件的咨询服务等。
5、世纪高通科技
世纪高通科技有限公司于2018年09月27日成立。
法定代表人杨赖土，公司经营范围包括：技术开发、技术转让、技术推广、技术咨询；计算机、软件及辅助设备、办公自动化设备、通讯设备、建筑材料的销售；
计算机系统服务；基础软件服务；应用软件服务；软件开发、技术咨询；计算机系统集成（须审批项目除外）；
计算机网络系统设计、集成、安装、技术服务；智能建筑工程施工；数据处理；测绘服务；通讯工程；货物与技术的进出口经营（国家限制、禁止和须经审批进出口的货物和技术除外）；计算机信息技术咨询等。

光刻机国产化前景如何

光刻机国产化前景广阔。
光刻机是现代半导体制造业的关键设备之一，其技术水平直接影响到半导体产品的质量和性能。我国作为全球最大的半导体市场之一，长期以来一直依赖进口光刻机，国产化程度较低。但是，随着国内技术的不断进步和政策支持的加强，光刻机国产化发展前景逐渐明朗。
目前，国内已经有一批企业开始进军光刻机领域，包括上海微电子、华光光电、晶合集成等。这些企业已经在一些特定领域取得了突破性进展，例如华光光电研发的国内首台100纳米线宽金属钨光刻掩模版，上海微电子的28纳米节点ArF浸没式光刻机等。这些成果不仅打破了国外垄断，也为我国半导体产业的发展提供了强有力的支持。
随着全球半导体产业的不断发展和变化，光刻机市场也将持续增长。而我国作为全球最大的半导体市场之一，光刻机市场需求也将持续增长。在这样的大背景下，国产光刻机有望在未来几年内取得更大的突破和更广泛的应用。
影响光刻机国产化发展前景的因素：
1、技术实力的提升：国家在光学、机械、电子等领域的技术实力是否有所提升，直接影响光刻机国产化的进度和质量。
2、政府政策支持：政府的资金投入和政策扶持对于光刻机国产化的成功至关重要。政府可以提供研发资金、税收优惠、专利支持等，来吸引企业参与光刻机的研发和制造。
3、技术合作和引进：国内企业可能通过与国外企业的合作或技术引进来加快光刻机技术的消化吸收和国产化进程。
4、国际竞争：光刻机市场竞争激烈，国内企业需要具备与国外光刻机厂商竞争的实力，包括在性能、质量和价格等方面都有竞争力。
5、市场需求：光刻机的需求与半导体产业的发展紧密相关。如果半导体市场持续增长，国内企业国产化光刻机的发展前景可能会更加乐观。

国产光刻机多少纳米

90纳米。根据查询工业网得知，国产光刻机最大分辨率为90纳米，波长193纳米。国产光刻机的最先进型号，是来自上海微电子的SSA60020。

光刻机国产排名第一的是哪个厂？

光刻机国产排名第一的是上海微电子。
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv/duv浸润式光刻机。所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第一。
上海微电子公司简介：
上海微电子是半导体行业的上市公司，公司坐落于张江高科技园区。
公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发，生产销售与服务，IC制造与先进封装，MEMS ，TSV/3D，TFT -OLED等制造领域。
公司致力于以极致服务，造高端产品，创卓越价值，全天候，全方位，全身心地为顾客提供优质产品和技术支持与服务。

半导体设备系列-光刻机

半导体设备系列——光刻机是半导体工业中的“皇冠”。
1、原理
光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。激光器作为光源发射光束，经过光路调整后，光束穿透掩膜版及镜片，经物镜补偿光学误差，将图形曝光在带有光刻胶的硅晶圆上，然后显影在硅片上。
2、发展历程
光刻机发展至今，已经历了5代产品的迭代。在1985年之前，第一代光刻机光源以436nm的g-line汞灯光源为主，只适用于5μm以上制程；之后出现了365nm的i-line汞灯光源的第二代光刻机，制程精度来到了350-500nm。第三代为扫描投影式光刻机，光源改进为248nm的KrF氟化氪准分子深紫外光源，实现了跨越式发展，将最小工艺推进至150—250nm。
第四代为步进式投影式光刻机，采用193nm波长的ArF氟化氩准分子激光光源，可实现制程推进到了65—130nm。第五代为EUV光刻机，选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源。
3、市场
目前全球光刻机市场被荷兰的ASML，日本的Canon、Nikon所垄断，因此统计三家数据便可代表整个行业状况。当前，中国也有了自己制造的光刻机，但是和国外龙头技术水平差距很大。上海微电子装备股份有限公司（SMEE）通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程。国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破。
4、产业链
光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高。
5、光刻机国产化
在华为被美国芯片限制之后，光刻机国产化为热门话题。然而光刻机的国产化并不是一朝一夕就能完成的任务。光刻机是一个非常复杂的系统，是多种精密技术的集合，几乎每个细分领域，需要行业顶级供应商携手合作来完成。光靠一两家公司闭门造车，不可能完成光刻机的研发。
国内在光刻机核心组件和配套设施也涌现出了一批优秀企业，包括双工作台厂商华卓精科、光源系统厂商福晶科技、光刻胶厂商南大光电和容大感光等。虽然“道阻且长”，光刻机的诸多零部件、原材料被卡脖子；然而“行则将至”，通过不断的培育人才、完善产业链，相信终有一日可以实现突破！

中国最大的光刻机生产厂家

上海微电子目前已经量产最先进的SSA600/20系列光刻机，依旧采用的是193nm ArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额；而根据国内官方媒体最新报道，上海微电子下一代28nm工艺节点的浸润式光刻机可以在明年完成量产交货，这意味着国产光刻机设备即将会掀起一股中国替代潮，已经取得了重大技术突破的上海微电子，未来的发展潜力无限。上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内，邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化（东部）基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
目前我国的光刻机厂家正在快速发展中，虽落后西方国家一步，但未来是光明可见的。光刻机的种类、品牌多式多样，其重要功能各不一样。光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。制造高精度的对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺，这也是国产光刻机望尘莫及的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊专利的机械工艺设计。例如Mycro N&Q光刻机采用的全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。

光刻机是什么？

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
并不是单纯的激光，其曝光系统基本上使用的是复杂的紫外光源。
光刻机工作原理：
光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程，现在先进的芯片有30多层。
扩展资料
光刻机的种类：
一、接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。
1、软接触，就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面。
2、硬接触，是将基片通过一个气压（氮气）往上顶，使之与掩膜接触。
3、真空接触，是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合。
特点：光刻胶污染掩膜板，掩膜板的磨损，容易损坏,寿命很低，容易累积缺陷。上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。
二、接近式曝光（Proximity Printing）：掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙，可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用。
特点：掩模寿命长（可提高10 倍以上），图形缺陷少，接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
三、投影式曝光（Projection Printing）：在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。
特点：提高了分辨率，掩膜板的制作更加容易，掩膜板上的缺陷影响减小。
参考资料来源：百度百科--光刻机

我国唯一一台euv光刻机现状

——2021年中国光刻机行业进出口贸易市场现状分析 进口占主导地位、日本和荷兰为主要进口地
中国光刻机行业主要上市公司：芯源微(688037)、华特气体(688268)等。
本文核心数据：光刻机进口量、光刻机出口量、光刻机进出口规模等
1、国内光刻机需求高度依赖进口
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，也是光刻胶材料研发的重要设备。由于光刻机是技术壁垒极高的产品，受技术限制，我国光刻机需求高度依赖进口，数据显示，2020年，我国光刻机行业的进出口总额为19.5亿美元，而贸易逆差达17.59亿美元。
2、光刻机进口量总体增长、主要从日本、荷兰进口
在进口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机进口数量和进口金额均先将后升。2020年，进口数量为239台，进口金额为18.55亿美元;2021年1-7月，进口数量和金额分别为248台、6.7亿美元，均超过了2020年全年水平。
从进口来源地来看，2020年，我国从日本进口的光刻机数量最多，达128台，但从进口金额来看，我国从荷兰进口的光刻机金额最多，占进口总额的89%，这主要是由于全球光刻机市场主要有三大企业占领，分别是荷兰ASML、日本的尼康和佳能，其中荷兰ASML在高端光刻机市场占绝对龙头地位。
从进口企业注册地来看，2020年，江苏省、上海市进口的光刻机数量最多，分别为70台和67台，主要因为这两个省市拥有较多的芯片制造企业，而光刻机是芯片制造的核心设备。
3、2020年上海市出口的光刻机数量最多
在出口贸易方面，数据显示，2017-2020年，我国光刻机出口数量和出口金额均先升后降。2020年，出口数量为39台，出口金额为9551.54万美元;2021年1-7月，出口数量和金额分别为20台、1648.9万美元。
从出口企业注册地来看，2020年，我国出口的39台光刻机中，有28台是由上海市企业出口，该市有我国本土光刻机的领先企业-上海微电子和芯源微。
以上数据参考前瞻产业研究院《中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》。
我国目前连一台euv光刻机都没有，即使是图纸也没有。
EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，它使用极紫外光技术进行微细加工，能够实现芯片制造的高精度和高速度。然而，全球EUV光刻机市场一直被荷兰ASML公司垄断，而中国EUV光刻机如何则备受关注。
目前，ASML公司所在的荷兰政府以及美国政府均在对EUV光刻机的出口进行严格的管制，而EUV光刻机是制造芯片的必要设备之一，中国的半导体产业将会面临供应链断裂的风险。
面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的半导体产业发展。中国正在积极推进自主创新，加大投入力度，建设自主可控的芯片生态系统。目前，中国的一些芯片制造企业也在积极研发EUV光刻机，以期实现国产化。
性能指标：
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
以上内容参考：百度百科—光刻机